晶体学

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翻译样例: 氟化钙晶体的生长与缺陷研究
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氟化钙晶体由于具有良好的光学性能长期受到人们的关注,宽的透光范围,高透过率使其在真空紫外至中红外波段被广泛用作光学介质。另外,CaF2晶体在紫外和可见波段也是复消色差透镜理想的光学材料。近年来,随着半导体技术的发展,大尺寸氟化钙晶体成为半导体光刻系统的首选镜头材料,引起了国际同行的广泛关注,已经成为半导体技术领域的一个研究热点[1,2]。

由于氟化钙原料容易吸潮,而且在晶体生长中对炉膛有一定的腐蚀性,再加上CaF2晶体膨胀系数大,热导率很低,所以大尺寸、高质量氟化钙晶体的生长存在一定的难度。常用的生长氟化钙晶体的方法为提拉法、下降法,也有用温度梯度法[3],但是不论用哪种方法,生长大尺寸高质量氟化钙晶体的难度依然存在,为了满足工业界对大尺寸氟化钙晶体的需求,我们在自制的坩埚下降炉内开展对氟化钙晶体生长的研究,探讨生长工艺对晶体质量的影响,并对晶体的缺陷进行了分析。

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